郝强来到EBL光刻机实验室,指导员工研发7nmEBL光刻机。
项目组某一位技术专家看到董事长到来,眼前一亮,上前跟他汇报:“董事长,您来了。”
“嗯,现在你们碰到什么较难解决的技术问题?”郝强直入话题。
“我自己这边统计了一下,目前有三个最难解决的难题。”这位技术专家娓娓道来,“第一点,分辨率与精度。
7nm级别的光刻需要更高的分辨率和精确度,以确保电路的功能和性能,制造更小的特征需要克服物理和化学限制。”
7nm比14nm,也就意味着使用更小的“画笔”。
设计同样的芯片,所使用的画板(晶圆面积)就更小,即芯片更小,往着更精密的方向发展。
专家看到郝强点头,接着说道:“第二点,图案转移与对准。”
在7nm工艺中,图案转移的准确性至关重要,任何微小的对准误差都可能导致电路功能失效。
精确的对准和图案重叠技术是研发中的难点。
公司在研发EBL光刻机时,已经解决了这个主要问题。
当然,随着技术的提升,要求更高。
原来的14nmEBL光刻机,大部分部件是可以应用在7nmEBL光刻机上面的,但有些零部件需要换成更先进的。
郝强倾听完技术专家的诉说后,耐心地逐一进行讲解。
在一般情况下,技术人员所面临的问题通常不需要他亲自出面解决。
然而,当技术专家们碰到无法克服的难题时,往往是团队也难以应对的复杂问题,这时郝强便不得不亲自出马。
否则,问题的解决将会拖延很长时间,甚至可能导致整个项目的进度受到影响。
集团的员工们都知道董事长工作繁忙,因此很少有人会贸然跑到他的办公室寻求帮助。
然而,郝强此时来到实验室,明显表明了他是为了专门解决技术问题而来。
在实验室的氛围中,浓厚的科研气息弥漫开来,设备的嗡鸣声和团队成员的讨论声交织在一起,创造出一种紧张而充满活力的工作环境。
技术专家刚才看到郝强的身影时,心中不禁生出一丝欣喜。
他原本打算慢慢与团队一道解决这些技术难题,但现在看来,郝强的到来无疑是一个转机。
作为在公司内最受尊敬的领导者,郝强的能力一直是个迷。
他的每一次出手,往往都能快速而有效地找到问题的症结所在,给出最佳的解决方案。
在这个时候,最好的答案似乎恰恰就在郝强身上。
他的到来,无疑为团队注入了强心剂,激发了大家的士气。
仅仅一会儿后,这位技术专家听完郝强的讲解,他就梳理清晰解决方案。
接着,
郝强巡查7EBL光刻机的研发进展。
未来科技集团的光刻机一直以来都笼罩在神秘的面纱之下,外界对其具体类型和技术细节知之甚少。
除了芯片生产部门和研发团队的核心人员之外,集团内其他部门的员工也对这具体技术并不知。
未来科技集团以14纳米工艺制程芯片起步,迅速引起了行业内外的震惊与关注。
这意味着其光刻机具备巨大的潜力,可能在不久的将来实现更先进工艺制程芯片的量产。