第181章 救星来了!

而最终的分析结果也果然不出他们所料,在降低了98%的产气量后,他们得到的电路保护膜,表面非常光滑平整,没有出现任何坍塌变形!

“膜厚正常,套刻精度正常!”

听到这个结果,所有人顿时都激动的看着吴利鸿。

事实上实验进行到了这一步,已经基本可以肯定他们的EUV光刻胶,已经达到了13.5纳米的制程标准。

因为他们苏省微电子的所有精力,都用来研发光刻胶了,对多重曝光等压缩制程的工艺,没有太多的研究,所以13.5纳米只是他们研究所的最小制程工艺。

而这款光刻胶具体的最小制程,得找申城硅产业或者立昂微来做进一步的验证,尤其是最早拿到EUV光刻机的申城硅产业,经过这几个月的摸索调试,他们已经把制程工艺推到了5nm。

不过为了稳妥起见,吴利鸿还是按捺住激动的心情,对大家开口道:“立即准备蚀刻实验验证,确认最后的环节没问题再送到申城硅产业去。”

“明白!”

研究员们听到后,顿时又开始忙碌了起来。

本来按照他们之前的实验流程,实验到了这一步基本就是失败了,这次其实根本就没有做好进入蚀刻环节的准备。

但面对这个意想不到的巨大惊喜,大家却没有一丝‘临时加班’的怨言,一个个都吭哧吭哧地开始重新准备实验。

两个小时后,最终结果终于出炉了。

他们研发的光刻胶,成功地经受干法刻蚀中高能粒子的洗礼,顺利完成了保护硅片基底的任务,芯片良品率高达98%!

在吴利鸿院士的带领下,苏省大学微电子研究员,终于成功研发出了一款能胜任13.5nm制程的国产顶级EUV光刻胶!

而且这个13.5纳米制程,只是目前的初步实验结论。

从他们这次得到的套刻精度来看,这款光刻胶实际上有相当大的可能,可以胜任5纳米制程芯片的制造!

吴利鸿也非常沉得住气,没有选择立即将实验结果上报上去,而是让研究员们按照上次的配方,重新调配了一批光刻胶。

然后重复做了足足十次实验,确认每次的结果误差都在可接受的范围内后,才带着光刻胶和团队的主要技术人员飞往魔都,来到了申城硅产业集团。

此时的申城硅产业的集团总裁陈云明恰好在和华威的余总和何总,讨论华威P6的芯片代工问题。

而双方讨论的要点,就是产量和成本的问题。

华威本着量大从优的道理,想要直接订购两千万枚麒零9000。

但申城硅产业现在,其实也就只有一台秦光一号。

按照秦光一号每小时180片的硅片吞吐量,以及制造出的每片晶圆可以切割出500枚芯片来算,一台光刻机每天的产能应该有216万枚。

但实际上,光刻机的吞吐量不代表晶圆的制造速度,而是要根据不同芯片的设计,进行多次曝光和蚀刻。